本会議は、日本と韓国で隔年開催されている強誘電体分野の国際会議「Korea-Japan Conference on Ferroelectrics」の第15回大会（KJC-Fe15）であり、2026年8月25日から28日にかけて、韓国・大田のKorea Advanced Institute of Science and Technology（KAIST）にて開催された。
本会議には、日韓を中心とする強誘電体分野の研究者・学生が参加し、基調講演、招待講演、口頭発表、ポスター発表などを通じて、強誘電体材料やデバイスに関する最新の研究成果について活発な議論が行われた。
今回、学生の口頭発表者が限られる中で発表の機会をいただき、自身の研究成果を国際的な場で発表するとともに、国内外の研究者と直接議論する貴重な機会となった。
本会議では、強誘電体薄膜のドメイン構造を、バッファ層を用いたひずみ制御によって制御する研究について発表した。薄膜に加わるひずみを制御することで、強誘電体のドメイン構造を制御することを目的とした研究であり、X線回折測定による構造評価の結果を中心に報告した。
発表後の質疑応答では、ドメイン構造の変化や電界印加による応答について質問をいただき、研究内容について専門分野の研究者と直接議論することができた。自身の研究について建設的な意見をいただいたことで、今後の研究を進める上での新たな課題や方向性について考える機会となった。
本会議への参加を通じて、国際的な研究交流の場で自身の研究成果を発表し、専門分野の研究者と直接議論する貴重な経験を得ることができた。特に、口頭発表では限られた時間の中で研究内容を分かりやすく伝えることの重要性を実感するとともに、質疑応答を通じて自身の研究を客観的に見直すことができた。
また、バンケットなどの交流行事にも参加し、日本および韓国の研究者や学生と交流する機会を得た。研究内容に関する意見交換だけでなく、研究生活や今後の研究についても幅広く交流することができ、国際的な研究ネットワークを広げる貴重な機会となった。
今回の国際会議への参加を通じて得られた知識や交流を今後の研究活動に活かし、より広い視野を持って研究に取り組んでいきたい。
このような貴重な国際会議への参加を可能にしてくださった一般財団法人丸文財団の国際交流助成金に、心より御礼申し上げます。
